影响磁控靶溅射电压的主要因素

影响磁控靶溅射电压的主要因素有：靶面磁场、靶材材质、气体压强、阴-阳极间距等。
一、靶面磁场对靶溅射电压的影响
　　1. 磁控靶的阴极工作电压，随着靶面磁场的增加而降低，也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而降低。溅射电流也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而加大。这是因为靶的溅射刻蚀槽面会越来越接近靶材后面的永久磁钢的强磁场。因此，靶材的厚度是有限制的。较厚的非磁性靶材能够在较强的磁场中使用。当磁场强度增加到0.1T以上时，磁场强度对溅射电压的影响就不明显了。
　　2. 铁磁性靶材会对磁控靶的溅射造成影响，由于大部分磁力线从铁磁性材料内部通过，使靶材表面磁场减少，需要很高电压才能让靶面点火起辉。除非磁场非常的强，否则磁性材靶材必须比非磁性材料要薄，才能起辉和正常运行(永磁结构的Ni靶的典型值小于4px，磁控靶非特殊设计最大值一般不宜超过3mm，Fe，co靶的最大值不超过2mm；电磁结构的靶可以溅射厚一些的靶材，甚至可达6mm厚)才能起辉和正常运行。正常工作时，磁控靶靶材表面的磁场强度为0.025T-0.05T左右；靶材溅射刻蚀即将穿孔时，其靶材表面的磁场强度大为提高，接近或大于0.1T左右。
二、防止背靶脱落的注意事项
    1.溅射温度不宜太高；
    2.电流要缓慢加大；
    3.循环水应低于35°；
    4.适宜的靶材致密度。